“我觉得掩膜版还是用石英玻璃比较好。”
“不不不，用我们研发的低膨胀玻璃更好。”
“但是石英玻璃化学性能稳定，适合用作光掩膜。”
“可是我们的低膨胀玻璃，其热膨胀系数接近硅。”
“但你们的玻璃短波长，投射率低。”
“那石英玻璃的价格明显过高。”
“算了，让大家来看看到底用哪个好。”
“看就看，我还怕你不成？”
“苏专家，你觉得用哪个好？”
苏墨正看戏看的开心。
猛然间，有人把问题抛到了他这边。
这一瞬，整个会议室都莫名的稍稍安静下来。
许多专家全都转过头来，看向他这边。
明显想要知道他的答案是什么。
而苏墨在稍微愣怔了一下之后。
不得不开口问道：
“请问你们刚才提出的问题是什么？
这边的声音太嘈杂，我没听清楚。”
听到这话，一位穿深色西装的中年专家立刻开口说道：
“我与赵主任在掩膜版方面存在争议。
我觉得应该对石英玻璃进行立项。
投入资金研发。
但他却觉得，可以使用他们不久前研发出的低膨胀玻璃。
我们两方在这边争执不下。
所以想请教一下苏专家的意见。”
苏墨点头应是，表示他已经听明白了。
实际上先前对方在提问的时候他就已经听清楚了。
但思考需要一定的时间。
因此就重复提问来争取时间。
而他们的问题其实涉及到光刻机的一个核心难点。
那就是掩膜版。
很少有人知道，光刻机又名掩膜对准曝光机。
这是因为常用的光刻机就是掩膜对准光刻。
没有掩膜版，光刻机无法准确的加工芯片。
像阿斯麦的EUV光刻机使用的是极紫外掩膜版。
这种掩膜版必须在真空条件下使用。
因为空气中的成分都会影响到紫外光的传播。
而这恰恰是国内目前难以制造出来的。
至于那两位专家争论的焦点。
其实也不复杂。
掩膜版的主要原材料为玻璃基板。
按照材质可以划分为树脂，苏打玻璃，石英玻璃等。
在这之前，半导体研究所已经在做这方面的研究工作。
争论中所提到的低膨胀玻璃便是研究成果。
而现在的问题在于。
周行知的设计图里面，明确提到了用石英玻璃。
但研究所对石英玻璃的研究并不充分。
反倒是在低膨胀玻璃方面取得了相当的成果。
那么接下来该支持哪边？
想了想，苏墨开口回道：
“我觉得这两者之间其实并不存在冲突。
低膨胀玻璃可以用来制备14nm的掩膜版。
而石英玻璃可以用来制备7nm乃至5nm的掩膜版。
两者完全可以齐头并进，同时立项。
毕竟就算我们以后真的造出来5nm光刻机。
又不是说14nm就没用了？”
对于苏墨的这份中正发言。
大部分专家们并没有多说什么。
而很快，就有人继续提问道：
“那么遮光膜呢？你要用什么材料？”
“镀铬。”
“那你要怎么保证一次成型的良品率？”
“使用抛光工艺。”
“成本太高了。”
“那就只能返工了。”
“工业上目前尚未形成光掩膜基板的返工方法。
请教如何做到？”
“可将待返工的基板置于4%的氢氧化钠溶液中青袍。
用纯水漂洗。
用异丙醇胺蒸汽干燥。
等等。
详细的方法和注意事项我会写在后续的文案里。”
“说到镀膜，那么多层镀膜又该如何解决？”
“可在SMC的基础上进行改进。
关于改进方向的探讨，我昨天刚提交过一篇相关论文。
有空的话你们可以去看看。”
.................................
对于场上一众专家们的提问。
苏墨是来者不拒，侃侃而谈。
很快，他就凭借丰厚的知识和独到的经验。<
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